各位工程师朋友们,“SiC科普小课堂”之“栅极氧化层”话题第四讲重磅来袭!本期我们聚焦详细介绍一种常用的栅氧可靠性验证方法——经时介电击穿(TDDB)测试。基本半导体市场部总监魏炜老师将为您解读该测试方法及原理,并通过实验数据和寿命预测模型,评估碳化硅MOSFET栅氧可靠性与成本之间的平衡关系。欢迎大家点击观看!
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